佳能針對200mm以下小型基板 發(fā)售可支持多種器件制造工藝的i線步進(jìn)式半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-3030iWa”
來源:佳能 編輯:lsy631994092 2019-12-11 15:32:00 加入收藏
佳能 將于2020年2月下旬發(fā)售適用于200mm以下小型基板的i線步進(jìn)式半導(dǎo)體光刻機(jī) ※ “FPA-3030iWa”。該設(shè)備將運(yùn)用在預(yù)計未來需求增長的汽車功率器件、5G相關(guān)的通信器件、IoT相關(guān)器件(如MEMS和傳感器等)的制造工藝中。
FPA-3030iWa
通過結(jié)合鏡頭的革新和支持多種晶圓的搬運(yùn)系統(tǒng),新產(chǎn)品不僅能支持硅晶圓,也能支持化合物半導(dǎo)體材料的晶圓。該產(chǎn)品提高了曝光精度且支持多種晶圓,因此可廣泛滿足多種器件制造工藝的需求。
■兼容各種器件的工藝條件
新產(chǎn)品采用的投影透鏡具有52mm×52mm的廣角以及可從0.16到0.24范圍內(nèi)進(jìn)行變更的數(shù)值孔徑(NA),在確保高焦點深度(DOF)的同時還可實現(xiàn)高曝光精度和均一線寬。此外,由于采用了可以在2英寸(50mm)到8英寸(200mm)之間自由選擇晶圓尺寸的處理系統(tǒng),新設(shè)備可以支持各種化合物半導(dǎo)體晶圓。另外,由于使用可以在不通過投影透鏡的情況下測量對準(zhǔn)標(biāo)記的離軸對準(zhǔn)鏡,因此可以在很寬的波長范圍內(nèi)進(jìn)行測量,這樣就能靈活用于各種器件的制造工藝中。
■通過更新硬件和軟件來提高生產(chǎn)力
新設(shè)備更新了用于化合物半導(dǎo)體晶圓的搬運(yùn)系統(tǒng)和可以同時測量XY方向位置的對準(zhǔn)鏡等的硬件和軟件,目前可以搬運(yùn)舊機(jī)型「FPA-3000iW」(1995年2月發(fā)售)無法對應(yīng)的透明基板(例如碳化硅等)和翹曲基板。
<什么是化合物半導(dǎo)體>
與傳統(tǒng)的硅不同,化合物半導(dǎo)體是一種使用多種元素作為半導(dǎo)體的材料,具有出色的電子性能?;衔锇雽?dǎo)體晶圓尺寸的主流是8英寸(200mm)或更小。使用化合物半導(dǎo)體的器件包括電動汽車中的功率器件、面向5G升級所需的大量通信器件和LED等光學(xué)器件,預(yù)計未來市場將不斷擴(kuò)大。
<半導(dǎo)體曝光設(shè)備的市場動向>
在IoT的發(fā)展、電動汽車的普及、電子設(shè)備節(jié)能化的背景下,通信器件、功率器件等各種器件市場正在擴(kuò)大,而在各類器件的制造中采用材料和形狀最合適的晶圓正在成為趨勢。其中,由碳化硅或氮化鎵制成的化合物半導(dǎo)體晶圓因其優(yōu)異的電子性能而備受關(guān)注。因此,對于半導(dǎo)體曝光設(shè)備來說,也產(chǎn)生了需要應(yīng)對化合物半導(dǎo)體晶圓的需求。
<主要產(chǎn)品規(guī)格> 有關(guān)產(chǎn)品規(guī)格的詳細(xì)信息請參考公司主頁
※ 使用了i線(水銀燈波長 365nm)光源的半導(dǎo)體曝光裝置。1nm(納米)是10億分之1米。
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